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#國際訪談】《日經新聞》報導東京威力員工竊密案 引述 DSET 執行長評論
《日本經濟新聞》近日報導，台灣知識產權及商業法院於4月27日就台灣國家核心關鍵技術外洩案作出一審判決，東京威力科創（Tokyo Electron）台灣子公司一名前員工被判處有期徒刑10年。據悉，該案涉及先進半導體製程的核心機密資訊，引發業界高度關注。
依據檢察起訴內容，涉案前員工原任職於台積電，離職後轉至東京威力科創台灣子公司。為改善用於電路形成的蝕刻設備，該員工涉嫌非法取得有關先進半導體製程的機密資料。台灣知識產權及商業法院除對該前員工判處懲役10年外，亦認定東京威力科創子公司負有監督責任，判處罰款新台幣1億5000萬元（約7億6000萬日圓），緩刑3年。東京威力科創與台積電雙方已達成和解。
DSET執行長張智程接受日經新聞記者訪問時指出，此案判決後，「未來對半導體設備製造商所要求的法令遵循標準將進一步提高。」他強調，企業必須縮限機密資訊的共享範圍，建立更嚴格的資訊管理制度。
《日本經濟新聞》指出，台積電在先進半導體市場已形成一強獨大的格局，對設備製造商而言更是磨練技術的「先生顧客（Teacher Customer；ティーチャー・カスタマー）」。東京威力科創在全球半導體設備市場排名第四，其「塗佈顯影機（Coater-Developer）」產品的全球市佔率高達九成，也長年在台灣深耕佈局。
就此次事件對雙方關係的影響，早稻田大學商學院長內厚教授分析指出，「東京威力科創是TSMC難以替代的重要夥伴」，預料影響應屬有限。東京威力科創亦就判決結果發表聲明，表示「嚴肅接受外界指出本公司未能充分履行監督義務一事」，並說明目前尚未發現公司組織性介入或機密資訊外洩至第三方的情形，預期對公司業績不會造成影響。
----2025 1016
東京威力科創（Tokyo
Electron）15日在熊本縣舉行半導體製造設備新開發大樓的落成典禮，投資金額高達470億日圓。新棟樓地上四層、總樓地面積約2萬7千平方公尺，預定2026年春季啟用。該公司計畫在此開發可支援「1奈米」級晶片製程的關鍵設備，與主要客戶，包括台積電（TSMC）與索尼集團密切合作，強化在全球前段製程設備領域的領先地位，並助力人工智慧（AI）性能提升。
東京威力科創九州公司社長林伸一在記者會中表示，公司將「著眼於1奈米以後世代的設備開發」，熊本研發能量將提升至以往的四倍。新設施將導入空調與無塵室，打造仿先進晶圓廠環境，用於與客戶共同進行製程測試與新機種評估。
熊本廠主要開發與生產「塗布顯影設備（Coater/Developer）」，此為在曝光製程前後塗布感光材料（光阻劑）的關鍵設備，技術難度極高，目前幾乎處於市場壟斷地位。該設備以高速旋轉方式均勻塗布感光劑與顯影液，能顯著提升晶圓良率，是微縮製程不可或缺的核心技術。
現階段最先進晶片為台積電預計於2025年量產的2奈米製程，而1.4奈米預計於2028年啟動量產。1奈米級晶片有望於2030年後普及，能在單一晶片上容納更多電晶體，使生成式 AI 反應更快、自動駕駛精度更高。
當摩爾定律逐漸逼近物理極限，東京威力科創正與荷蘭 ASML 及比利時研究機構 imec 合作，挑戰製程微縮極限。公司除熊本外，也在海外主要晶圓廠附近設研發據點，與客戶同步開發未來10至15年、約四代以後的設備，以確保長期採用關係。
隨著製程微縮，化學藥劑使用量增加，公司將投入節能與節水技術，以降低製造成本與環境負荷。東京威力科創目前在成膜、塗布顯影、蝕刻與清洗等前段製程設備中，均名列全球市占前茅。不過，蝕刻裝置領域競爭激烈，公司計畫強化開發實力，以鞏固塗布顯影優勢並推動其他領域的回升。
雖然短期業績受全球半導體投資減緩與中國市場銷售疲弱影響，2026年3月期預估將出現減益，但公司仍維持長期樂觀看法，預計至2029年3月期的五年間，將投入逾1.5兆日圓研發資金，比過去五年增加九成。
然而，與最重要客戶台積電的合作關係出現陰影。台灣檢方於8月起訴數名前技術人員，指控他們非法使用台積電2奈米技術機密，其中包含曾任東京威力科創台灣分公司員工。若確認洩密，可能衍生賠償問題。公司表示此事件「對業績無重大影響」，但如何維持與台積電的信任關係已成當前緊迫課題。
